高溫管式爐
產(chǎn)品介紹：
目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現(xiàn)溫度的高精度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度。
同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)an全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)溫度控制操作！
本試驗爐具有：1000度、1200度、1400度各種型號。也可根據(jù)用戶需求訂制！
反射鏡是具有高精度曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。
設備優(yōu)勢：
高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。
溫度高精度控制：過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
應用范圍：
1. 電子材料
◆半導體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）
◆熱源薄膜形成
◆激活離子注入后
◆硅化物的形成
2. 陶瓷與無機材料
◆陶瓷基板退火爐
◆玻璃基板退火爐。
◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐。
3. 鋼鐵和金屬材料
◆薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。
◆爐焊接模擬
◆高真空熱處理（1000°C以下）
◆大氣氣體熔化過程
◆壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐
4. 復合材料
◆耐熱性評價爐
◆無機復合材料熱循環(huán)試驗爐
5. 其它
◆高溫拉伸壓縮試驗爐。
◆分段分區(qū)控制爐
◆溫度梯度爐
◆爐氣分析
◆超導陶瓷退火爐
